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  • 芯片制冷加熱測(cè)試機(jī) 密閉高低溫循環(huán)裝置

    【無(wú)錫冠亞】芯片制冷加熱測(cè)試機(jī) 密閉高低溫循環(huán)裝置,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    更新時(shí)間:2025-01-17

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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  • 氣流溫度沖擊系統(tǒng) 密閉加熱冷卻設(shè)備

    【無(wú)錫冠亞】氣流溫度沖擊系統(tǒng) 密閉加熱冷卻設(shè)備,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

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  • 高低溫設(shè)備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置

    【無(wú)錫冠亞】高低溫設(shè)備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

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  • 密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機(jī)

    【無(wú)錫冠亞】密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機(jī),應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

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  • 高低溫循環(huán)設(shè)備-10~200℃ 溫度控制系統(tǒng)

    【無(wú)錫冠亞】高低溫循環(huán)設(shè)備-10~200℃ 溫度控制系統(tǒng),應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

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  • 密閉制冷加熱循環(huán)器-10~200℃ 導(dǎo)熱油控溫

    【無(wú)錫冠亞】密閉制冷加熱循環(huán)器-10~200℃ 導(dǎo)熱油控溫,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

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